CKD Technology yalnız anbarda yeni maşınlara malik deyil, dərhal mövcuddur.
İlkin sərmayənizi əhəmiyyətli dərəcədə azaldaraq, xüsusi istehsal tələblərinizə xidmət etməyə hazır olan ətraflı icarə işimiz də var. Ətraflı məlumat üçün bizimlə əlaqə saxlayın.
CKD-nin açar təslimi xidməti göstərməyə hazır olan peşəkar mühəndislər komandası var.
İstifadə olunmuş maşınların ticarəti üçün Whatspp və ya e-poçt vasitəsilə bizimlə əlaqə saxlayın.
------------------------------------------------------------------
MYS10 seriyası yarımkeçiricilər, elektronika, SMT, optoelektronika və tibbi texnologiya kimi sektorlardakı tətbiqlər üçün hazırlanmış, tam avtomatlaşdırılmış, xətt daxilində plazma emal sistemidir.
• Atmosfer təzyiqli arqon plazma sistemi
• 100 mm enində in-line partiya plazma emalı; ənənəvi üsullarla müqayisədə 2-5 dəfə yüksək səmərəlilik və 30%-dən çox aşağı əməliyyat xərcləri təklif edir
• 100% neytral plazma; həssas elektron komponentlər üzərində təhlükəsiz və yumşaqdır— plazma bombardmanı, statik elektrik, qığılcımlar, qövslər, toz, yüksək istilik, səth dalğaları və ya ultrabənövşəyi radiasiya yaratmır, məhsullara sıfır ziyanı təmin edir
• Yüksək elastiklik və uyğunluq təklif edən kompakt plazma platforması
• Çox yönlü kimyəvi proseslər: üzvi çirkləndiricilərin çıxarılması üçün O2 prosesi; Metal oksidləri çıxarmaq və məhsul səthlərini aktivləşdirmək üçün H2 prosesi
• Hissəcikli və ya maye çirkləndiricilərin əmələ gəlməsi yoxdur
| Əsas Spesifikasiyalar | MYS10 |
| Güc Tələbləri | AC 200–240V, 4.4kVt, 20A, 50/60Hz |
| Hava Təzyiqinə Tələblər | 90 psi (6 bar) |
| Ölçülər | 790 x 1200 x 1880 mm |
| Çəki | 800 kq |
| Sertifikatlaşdırma Standartları | CE, SEMI S2 |
| Yerləşdirmə Dəqiqliyi | XY: ±30 µm @ 3σ; Z: ±10 µm @ 3σ |
| XYZ oxunun təkrarlanma qabiliyyəti | XY: ±15 µm @ 3σ; Z: ±5 µm @ 3σ |
| Maksimum Sürət | 1000 mm/s (XY) |
| Sürətlənmə | 1,0 q |
| Sürücü Sistemi | AC servo |
| İş Platformasının Xüsusiyyətləri | |
| Track növü | Kəmər |
| Dəmir yolu yükgötürmə qabiliyyəti | 3 kq |
| Substrat qalınlığı diapazonu (daşıyıcı olmadan) | 0,5-6 mm |
| Z oxu hərəkəti | 100 mm |
| Maks. komponentin hündürlüyü (yuxarı tərəf) | 26 mm |
| Maks. komponentin hündürlüyü (aşağı tərəf) | 23 mm |
| Rabitə protokolu | SMEMA |
| İş sahəsi | |
| Plazma ilə müalicə sahəsi (W×D) | 350–475 mm |
| Plazma müalicəsindən sonra su ilə əlaqə bucağı (WCA). | WCA < 10° (Silikon vafli) WCA < 20° (Qeyri-metal) |
| Plazma müalicəsi üsulu | Üzvi çirkləndiricilərin çıxarılması üçün O2 prosesi Metal oksidin çıxarılması üçün H2 prosesi |
| Plazma sistem tələbləri | |
| RF Gücü | 27,12 MHz-də 600 Vt |
| Əsas plazma qazı | Arqon |
| Proses Qazı | O2, N2 və ya H2 |
| Qaz təchizatı təzyiq diapazonu | 40–100 psi (0,3–0,7 MPa) |
Ünvan
5-ci Mərtəbə, Bina 2, No. 182, Chang'an Xi'an Road, Chang'an Town, Dongguan, Guangdong Province, Çin.
Tel
E-poçt
